Overclockers.ru: Китай в обход санкции Запада приступил к разработке EUV-литографической "пушки"

После полного оборота накопительного кольца пучки электронов переходят в состояние "микропучка" и создают когерентное излучение на длине волны лазера и его высших гармониках. Изображение предоставлено онлайн-изданием Asia Times Files / Университет Цинхуа.

За последние несколько дней в китайском сегменте Интернета появилось несколько статей и видеороликов, в которых утверждается, что Университет Цинхуа совершил прорыв в технологии стабилизированного микропучка (Steady State Microbunching, SSMB), которая способна сформировать источник EUV излучения в несколько раз более мощный, чем используемый в EUV-литографии компании ASML.

 По мнению китайских специалистов, будущий запуск SSMB-ускорителя, получившего название "литографическая пушка", поможет Китаю обойти меры экспортного контроля со стороны Соединенных Штатов и Нидерландов.

Эта информация через несколько недель после того, как 29 августа компания Huawei Technologies начала продажи своего флагманского смартфона Mate60 Pro, в котором использован 7-нанометровый чип, изготовленный по технологии N+2 Semiconductor Manufacturing International Corp (SMIC) и с применением глубокой ультрафиолетовой (DUV) литографии ASML.

"Мы прекрасно понимаем, что, следуя нынешнему технологическому маршруту, трудно добиться новых прорывов в области обработки интегральных микросхем", - пишет один из экспертов из Чунцина в статье, опубликованной 16 сентября в журнале Huxiao Business Review. "Более рационально следовать новым курсом".

По его мнению, предложение Цинхуа использовать технологию SSMB в литографии может помочь Китаю преодолеть технологические ограничения ASML. Он добавил, что то, что предлагает Цинхуа, — это не просто литографическая машина, а огромный завод, для строительства которого потребуются большие площади и рабочая сила - ресурсы, с которыми у Китая нет проблем.

В своей статье, опубликованной в воскресенье, Бу Сяотун, журналист из провинции Хэнань, утверждает, что Китай, возможно, не сможет создать литографическую машину такую как у ASML, но может построить литографическую фабрику.

Китай в обход западных санкции приступил к разработке литографической "пушки" EUV. На снимке проект накопительного кольца для устойчивой микропучковой генерации EUV-излучения. Изображение предоставлено онлайн-изданием Asia Times Files / Университет Цинхуа.

"В статье, опубликованной в Acta Physica Sinica (китайский научный журнал), предлагается создать SSMB-EUV-литографию, а исследования Цинхуа уже доказали осуществимость этой концепции", - пишет он.

Ссылаясь на данные о планах КНР по строительству предприятия Steady State Microbunching в новом районе Сюнган недалеко от Пекина, он утверждает, что в случае успеха этот проект позволит Китаю обойти санкции со стороны Соединенных Штатов.

По мнению другого эксперта, Китай вынужден разрабатывать технологию SSMB, поскольку не может получить ни EUV-литографию от компании ASML, ни необходимые ключевые компоненты, в частности, линзы от немецкой компании Zeiss и инструменты для работы с лазерным лучом от американской Cymer и немецкой Trumpf.

Принцип работы технологии Steady State Microbunching

В 2010 году Дэниел Ратнер и Александр Чао, два ученых из Стэнфордского университета, впервые предложили концепцию SSMB. Их идея заключалась в том, что электроны, циркулирующие в синхротроне, организуются в небольшие пучки (микропучки), которые поддерживают излучение когерентного света.

В 2016 году Чао и ученые из Университета Цинхуа и Берлинского Гельмгольц-центра инициировали совместный проект по проведению экспериментов с SSMB на синхротроне Metrology Light Source в Берлине, владельцем которого является Федеральная лаборатория стандартов в Брауншвейге (Physikalisch-Technische Bundesanstalt).

В феврале 2021 года Дэн Сюцзе и Тан Чуаньсян из Цинхуа, Чао и ряд других физиков опубликовали совместную статью под названием "Экспериментальная демонстрация механизма стационарного микропучка" в академическом журнале Nature Physics. По словам авторов, этот эксперимент является важной вехой на пути к созданию высокопериодичного и мощного источника фотонов на основе SSMB.

В марте 2022 года Танг и Денг совместно написали статью под названием "Стационарный источник света микропучкового ускорителя" в журнале Acta Physica Sinica, в которой говорится, что технология SSMB может быть использована для создания EUV источника света для литографии.

В перспективе Пекин планирует построить стационарный микропучковый ускоритель для создания источника глубокого ультрафиолетового излучения. На снимке Александр Чао (в центре) вместе с коллегами проводит экспериментальную проверку технологии микропучка в устойчивом состоянии (SSMB) в Берлине. Изображение предоставлено онлайн-изданием Asia Times Files / Университет Цинхуа.

"Реализация ускорителя SSMB-EUV поможет китайской EUV-литографии достичь стремительного развития", - говорится в статье. "Ожидается, что ускоритель SSMB будет использоваться в качестве источника света для литографической промышленности и различных научных исследований. При этом его характеристики будут продолжать улучшаться, а стоимость постепенно снижаться".

В настоящее время в EUV-литографии комании Advanced Semiconductor Materials International (ASML) используется источник света, созданный на основе лазерной плазмы (Laser-Produced-Plasma LPP), максимальная мощность которого составляет 500 Ватт. Ускоритель SSMB, имеющий форму кольца, способен создать источник EUV-излучения мощностью около 1 киловатта. При этом его диаметр может варьироваться от 100 до 150 метров.

В качестве другого источника EUV-излучения используется сверхпроводящий радиочастотный лазер на свободных электронах (Free Electron Laser, SRF-FEL), максимальная мощность которого может составлять от 1 до 10 киловатт. Размеры такой установки могут достигать 200 метров. Однако для реализации этой задачи необходимы более "масштабные технологические прорывы".

В целом мощность лазерного луча для изготовления 7-нм чипов должна достигать 250 Вт, для 5-нм - 350 Вт, для 3-нм - 500 Вт. Для производства 2-нм чипов требуется 1 кВт.

Проект "Сюньган"

В ноябре прошлого года профессор кафедры инженерной физики университета Цинхуа Пань Чжилун, выступая на осеннем собрании Китайского физического общества, заявил, что технология SSMB может найти применение в литографии.

23 февраля этого года Пань и некоторые представители власти и научных кругов провинции Хэбэй провели форум, посвященный вопросу внедрения SSMB-EUV. В рамках мероприятия они рассмотрели возможность строительства такой установки в Сюньгане.

Все эти перспективные разработки в последнее время привлекли пристальное внимание китайских интернет-пользователей, которые хотели бы, чтобы после успешного запуска Mate60 Pro Китай перешел к созданию собственной EUV-литографии. Вместе с тем, некоторые китайские аналитики считают, что пока рано говорить о том, что Китай в ближайшее время сможет построить собственную EUV-литографию.

ASML может уже начать паниковать: Если Пекин не может построить литографическую машину, он построит литографическую фабрику! Тан Чуаньсян - профессор кафедры инженерной физики Университета Цинхуа. Изображение предоставлено онлайн-изданием Asia Times Files / Университет Цинхуа.

Допустим Китай построил ускоритель SSMB, пишет один из шанхайских обозревателей, но ему еще нужно приложить много усилий для создания линз и рабочих платформ необходимых литографическом производстве. По его мнению, на данный момент SSMB лучше использовать для исследований в области столкновений высокоэнергетических частиц.

рекомендации

4060 Ti всего на 2тр дороже чем 3060 Ti

Ищем PHP-программиста для апгрейда конфы

Цена RTX 4060 равна цене 3060 в Регарде

Однако аналитик онлайн-издания Baidu Бу Сяотун считает иначе. Нельзя отрицать, пишет эксперт, что между технологиями литографии Китая и такими крупнейшими производителями, как ASML все еще существует большой разрыв. Однако Пекин всегда придерживался пути независимых исследований и разработок. Темпы роста Китая очень высоки, поэтому полный прорыв технологической блокады Запада - лишь вопрос времени.